কপার স্পুটারিং টার্গেট লজিক এবং মেমরি ডিভাইসে কন্ডাক্টর উপাদান সহ বিভিন্ন পাতলা ফিল্ম অ্যাপ্লিকেশনের জন্য ব্যবহৃত হয়। Fabmann OEM PVD (শারীরিক বাষ্প জমা) সিস্টেমের জন্য 4N (99.99%), 4N5 (99.995%) এবং 5N (99.999%) এর মতো বিভিন্ন সমতায় প্রিমিয়াম কপার টার্গেট সামগ্রী সরবরাহ করতে পারে এবং আমরা উন্নত থার্মোমেকানিক্যাল প্রসেসিং (ATMP) এর উপর অনেক বেশি ফোকাস করি। ) ন্যূনতম খরচের সাথে অতি-উচ্চ কর্মক্ষমতার জন্য ক্রিস্টালোগ্রাফিক টেক্সচার এবং শস্যের আকারের আরও ভাল গুণমান নিশ্চিত করতে। আমরা 80μm-এর থেকে ছোট শস্যের আকার এবং 5ppm-এর কম অক্সিজেন সামগ্রী সহ ঘূর্ণমান এবং প্ল্যানার কপার স্পুটার টার্গেট উপকরণ উভয়ই সরবরাহ করতে পারি।
প্ল্যানার কপার টার্গেটের উৎপাদন প্রক্রিয়া
উত্পাদন প্রক্রিয়া নিয়ন্ত্রণ উচ্চ মানের তামা স্পটার লক্ষ্য উপকরণ নিশ্চিত করার জন্য অত্যাবশ্যক, এবং এটি সাধারণত নিম্নলিখিত পদক্ষেপ আছে:
√ ইলেক্ট্রোলাইটিক রিফাইনিং, ভ্যাকুয়াম ইন্ডাকশন গলন এবং ভ্যাকুয়াম ইলেক্ট্রন বিম গলানোর মাধ্যমে উচ্চ-বিশুদ্ধতা তামার ইঙ্গট তৈরি করা।
√ দ্বিতীয় ধাপ হল তামার পিণ্ডটিকে হট ফোরজিং, হিট ট্রিটমেন্ট, কোল্ড ফোরজিং এবং হিট ট্রিটমেন্টের মাধ্যমে ক্রমানুসারে প্রি-ট্রিটেড করা।
তামার ফাঁকা।
√ পূর্ব-চিকিত্সা করা কপার ব্ল্যাঙ্ক তারপরে একটি তামার লক্ষ্য প্রাপ্ত করার জন্য হট রোলিং, হিট ট্রিটমেন্ট, কোল্ড রোলিং এবং হিট ট্রিটমেন্ট করা হয়।
ফাঁকা
√ তামার লক্ষ্য খালি চামড়া সরান
√ কাঙ্ক্ষিত চূড়ান্ত মাত্রা এবং পৃষ্ঠের ফিনিস অর্জনের জন্য কাস্টম মেশিনিং কাজ করুন এবং তামার টিউব প্রতিরোধ করতে কুল্যান্ট স্প্রে করা প্রয়োজন
মেশিনিং চাপের কারণে বিকৃত থেকে লক্ষ্য।
√ নাকাল এবং মসৃণতা পরে, সমাপ্ত তামা লক্ষ্য উপাদান প্রাপ্ত করা হয়.
প্ল্যানার কপার টার্গেট ডাইমেনশন
√ 750 x 250 (T:20mm),
1200 x 250 (T:20mm),
914 x 914 (T:12 মিমি),
500 x 500 (T: 4 মিমি),
সর্বাধিক 3,000মিমি দৈর্ঘ্য সহ কাস্টমাইজড মাত্রা
√ CNC, ড্রিলিং, থ্রেডিং, বেভেলিং এবং খাঁজ সহ কাস্টমাইজড কাস্টম লক্ষ্য
√ বৃত্তাকার প্ল্যানার টার্গেটের ব্যাস 2 ইঞ্চি থেকে 6 ইঞ্চি সহ 1/8 ইঞ্চি বা 1/4 ইঞ্চি
√ বন্ধন পরিষেবা উপলব্ধ
ঘূর্ণনশীল কপার টার্গেটের উৎপাদন প্রক্রিয়া
ঘূর্ণনযোগ্য স্পটারিং লক্ষ্যবস্তু, যা রোটেটেবল ক্যাথোড বা ঘূর্ণায়মান লক্ষ্যমাত্রা নামেও পরিচিত, ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং নামে একটি স্পুটারিং ডিপোজিশন কৌশলে ব্যবহৃত বিশেষ উপকরণ। স্পাটারিং হল একটি ভৌত বাষ্প জমা (PVD) প্রক্রিয়া, একটি উচ্চ-গতির প্রক্রিয়া যেখানে সুপারফাস্ট আয়নগুলি একটি স্পটারিং লক্ষ্যে আঘাত করে এবং ক্ষুদ্র কণাগুলিকে অপসারণ করে, যা সেমিকন্ডাক্টর, ইলেকট্রনিক্স এবং পাতলা ফিল্ম শিল্পে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয় যাতে বিভিন্ন পদার্থের পাতলা ফিল্মগুলি সাবস্ট্রেটগুলিতে জমা হয়। ঘূর্ণনশীল কপার টার্গেটের স্ট্যান্ডার্ড উত্পাদন প্রক্রিয়া ভ্যাকুয়াম গলন, ইলেক্ট্রোলাইটিক কপার ইঙ্গটগুলির ঢালাই এবং গরম এক্সট্রুশন এবং ইঙ্গটগুলির প্রক্রিয়াকরণ থেকে শুরু হয়। প্রথমত, উচ্চ-বিশুদ্ধতা তামার পিণ্ডটি ভ্যাকুয়াম গলানোর মাধ্যমে উত্পাদিত হয়, এবং তারপরে তা তামার টিউব ফাঁকা করে গরম করা হয়। এর পরে এটি হাইড্রোলিক ক্রমাঙ্কন মেশিন দ্বারা 1 মিমি/মি এর কম সোজাতা অর্জনের চেয়ে সোজা হয়। এর পরে, সোজা করা টিউব ফাঁকা CNC মেশিনে তার মাত্রিক নির্ভুলতার জন্য নির্ভুলভাবে প্রক্রিয়া করা হয় এদিকে পৃষ্ঠের রুক্ষতা নির্দিষ্ট প্রয়োজনীয়তাগুলি পূরণ করবে। নীচে বিস্তারিত উত্পাদন প্রক্রিয়া:
√ উচ্চ-বিশুদ্ধতা ইলেক্ট্রোলাইটিক কপার একটি ভ্যাকুয়াম ইন্ডাকশন গলানোর চুল্লিতে স্থাপন করা হয় এবং তারপর ভ্যাকুয়াম গলানো হয়।
√ প্রাপ্ত গলিত তামা তামার বৃত্তাকার ইঙ্গটের জন্য ঢালাই চুল্লির স্ফটিকের মধ্যে প্রবাহিত হয়;
√ তামার পিণ্ডটি তারপর গরম এক্সট্রুশনের জন্য এক্সট্রুশন ব্যারেলে স্থানান্তরিত হয়, এবং এটির জন্য 400-500 ডিগ্রি তাপমাত্রার সাথে সর্বনিম্ন 25KN চাপ প্রয়োজন। এইটা
অত্যাবশ্যক যে গরম এক্সট্রুশন প্রক্রিয়া চলাকালীন 150μm থেকে ছোট শস্যের আকার অর্জনের জন্য চাপ যথেষ্ট বড়।
√ তামার টিউব ফাঁকা স্বাভাবিকভাবে ঘরের তাপমাত্রায় ঠান্ডা করা হয়, এবং তারপরে সোজা করা হয়। তামার টিউব প্রাচীর 20 মিমি বেশী হলে, এটা হয়
সোজা করার আগে টিউবটিকে 200 ~ 300 ডিগ্রির মধ্যে গরম করা প্রয়োজন।
√ তামার টিউব ফাঁকা কাটা এবং কাঙ্ক্ষিত স্পেসিফিকেশনে মেশিন করা হয়, এবং তামার টিউব লক্ষ্য বিকৃত হওয়া থেকে রোধ করতে কুল্যান্ট স্প্রে করা প্রয়োজন
মেশিনিং চাপের কারণে।
√ নাকাল এবং মসৃণতা পরে, সমাপ্ত ঘূর্ণন তামা লক্ষ্য উপাদান প্রাপ্ত করা হয়.
প্ল্যানার টার্গেটের সাথে তুলনা করলে, রোটারি টার্গেটে আরও উপাদান থাকে এবং এটি একটি বৃহত্তর ব্যবহার অফার করে, যার অর্থ দীর্ঘ উত্পাদন চলে এবং সিস্টেমের ডাউনটাইম হ্রাস পায়, আবরণ সরঞ্জামগুলির থ্রুপুট বৃদ্ধি করে। এছাড়াও, রোটারি স্পুটার টার্গেট উচ্চ শক্তির ঘনত্ব ব্যবহার করতে দেয় কারণ তাপ বিল্ড আপ টার্গেটের পৃষ্ঠের এলাকায় সমানভাবে ছড়িয়ে পড়ে। ফলস্বরূপ, প্রতিক্রিয়াশীল স্পুটারিংয়ের সময় উন্নত কর্মক্ষমতা সহ একটি বর্ধিত জমার গতি অর্জন করা যেতে পারে। প্ল্যানার টার্গেটের সাথে তুলনা করলে, ঘূর্ণন লক্ষ্যে আরও উপাদান থাকে এবং এটি একটি বৃহত্তর ব্যবহার অফার করে, যার অর্থ দীর্ঘ উত্পাদন চলে এবং সিস্টেমের ডাউনটাইম হ্রাস পায়, আবরণ সরঞ্জামগুলির থ্রুপুট বৃদ্ধি করে। এছাড়াও, ঘূর্ণমান স্পটার টার্গেট উচ্চ শক্তির ঘনত্ব ব্যবহার করতে দেয় কারণ তাপ বিল্ড আপ টার্গেটের পৃষ্ঠের এলাকায় সমানভাবে ছড়িয়ে পড়ে। ফলস্বরূপ, প্রতিক্রিয়াশীল স্পুটারিংয়ের সময় একটি উন্নত কর্মক্ষমতা সহ একটি বর্ধিত জমার গতি দেখা যায়।
রোটারি স্পুটারিং টার্গেটের সুবিধা
√ উন্নত অভিন্নতা, লক্ষ্যের ঘূর্ণন তার পৃষ্ঠ জুড়ে আরও অভিন্ন ক্ষয় এবং জমা হতে সাহায্য করে। লক্ষ্য আবর্তিত হিসাবে, ভিন্ন
লক্ষ্যবস্তুর এলাকাগুলি আয়ন বোমাবর্ষণের সংস্পর্শে আসে, যা আরও ক্ষয় এবং জমার হারের দিকে পরিচালিত করে।
√ উন্নত লক্ষ্য ব্যবহার, ক্ষয় একটি বৃহত্তর পৃষ্ঠ এলাকায় ছড়িয়ে পড়ে, স্থানীয় ক্ষয়ক্ষতি হ্রাস করে এবং লক্ষ্যের আয়ু বৃদ্ধি করে। এটাও
প্রক্রিয়া দক্ষতা উন্নত করতে সাহায্য করে এবং লক্ষ্য প্রতিস্থাপনের জন্য ডাউনটাইম হ্রাস করে।
√ বর্ধিত জমার হার, লক্ষ্যের ঘূর্ণন গতি আয়নকরণ এবং স্পুটারিং দক্ষতা উন্নত করতে পারে, যা উচ্চতর জমার দিকে পরিচালিত করে
পছন্দসই ফিল্ম বেধ অর্জনের জন্য প্রয়োজনীয় সামগ্রিক প্রক্রিয়া সময় হ্রাস করার সময় হার।
√ উন্নত ফিল্মের গুণমান, উন্নত লক্ষ্য ব্যবহার এবং অভিন্নতা জমাকৃত ফিল্মের মধ্যে ত্রুটি, অমেধ্য এবং চাপ কমাতে সাহায্য করতে পারে,
উন্নত বৈদ্যুতিক, অপটিক্যাল, এবং যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্যের ফলে।
রোটারি কপার টার্গেট ডাইমেনশন
√ OD 2 ইঞ্চি থেকে 7 ইঞ্চি
√ আইডি 1.5 ইঞ্চি থেকে 6 ইঞ্চি পর্যন্ত
√ দৈর্ঘ্য 50 ইঞ্চি থেকে 130 ইঞ্চি (1,270 মিমি থেকে 3,302 মিমি)
√ কাস্টমাইজড ঘূর্ণমান লক্ষ্য
√ বন্ধন পরিষেবা উপলব্ধ
Fabmann সেমিকন্ডাক্টর, রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) এবং শারীরিক বাষ্প জমা (PVD) প্রদর্শন এবং অপটিক্যাল অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে ব্যবহারের জন্য সর্বোচ্চ সম্ভাব্য ঘনত্ব এবং ক্ষুদ্রতম সম্ভাব্য শস্যের আকার সহ উচ্চ বিশুদ্ধতা তামার স্পুটারিং লক্ষ্য সরবরাহে বিশেষজ্ঞ। আমরা মোনোব্লকের সাথে স্পুটারিং টার্গেট সরবরাহ করতে পারি বা হোল এবং থ্রেডিং, বেভেলিং, গ্রুভস এবং ব্যাকিং সহ প্ল্যানার টার্গেটের সাথে বন্ডেড করতে পারি যা পুরানো স্পাটারিং ডিভাইসের পাশাপাশি সর্বশেষ প্রক্রিয়া সরঞ্জামগুলির সাথে কাজ করার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে, যেমন সৌর শক্তি বা জ্বালানী কোষের জন্য বড় এলাকা আবরণ। এবং ফ্লিপ-চিপ অ্যাপ্লিকেশন। আমরা বৃত্তাকার, আয়তক্ষেত্রাকার, বৃত্তাকার, বৃত্তাকার, ঘূর্ণমান, এবং গবেষণা আকারের মাত্রা সহ সমস্ত মানক বন্দুকের সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ লক্ষ্যগুলির সমস্ত আকার এবং কনফিগারেশনের জন্য কাস্টম ফ্যাব্রিকেশন সমাধান প্রদান করতে পারি। এছাড়াও, উচ্চ বিশুদ্ধতা তামা স্পুটারিং লক্ষ্যমাত্রা, ফ্যাবম্যান এছাড়াও নিয়মিত অক্সিজেন মুক্ত কপার প্লেট সরবরাহ করে যেমন বিভিন্ন গ্রেডের যেমন CW008A (C10200), CW009A (C10100), CW004A (C11000), CW0024A (C12200) এবং আমরা মোটা হিসাবে সরবরাহ করতে পারি। 30 মিমি পর্যন্ত বেধ সহ প্লেট।
গরম ট্যাগ: তামা sputtering লক্ষ্য, চীন, নির্মাতারা, সরবরাহকারী, কারখানা, কাস্টম
